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哈爾濱光學共焦顯微鏡

產品型號HUE-X931

產品名稱光學共焦顯微鏡

測量范圍:20mm

分辨力:300nm

線性度:99.9%

隔振要求:儀器應放在隔振基礎上,周圍無劇烈振動和沖擊       


解決方案

產品手冊

  • 詳細信息
  • 產品概述

一.產品簡介

HUE-X931是哈爾濱工業大學、哈爾濱超精密裝備工程技術中心有限公司聯合開發的新一代高空間分辨率光學共焦顯微鏡。 產品系大型高端科學儀器,綜合了國內外優勢技術方案,技術密集度極高,能夠實現對各類樣品表面微結構的高分辨率三維測量。

二.使用環境

溫度要求:20℃±1℃

濕度要求:小于60%RH

隔振要求:儀器應放在隔振基礎上,周圍無劇烈振動和沖擊

電磁場要求:使用現場周圍無強電磁干擾


三.HUE-X931特征與優勢

非接觸式3D測量:采用532nm波長激光產生的虛擬探針進行測量,不會劃傷樣品表面。

抗樣品反射率擾動:采用共焦傳感原理,對樣品表面測量點的反射率變化不敏感。高空間分辨力測量特性:橫向分辨力優于傳統顯微成像,軸向分辨力達到納米級水平。

硬件模塊化設計:可根據測量樣品的不同需求配置測量方案。可定制的軟件功能模塊:開發工程師可根據用戶需求,設計提供相應軟件模塊。


四.應用領域
      輪廓測量 : 高度測量 寬度測量 形狀角度測量
      3D測量 :  體積測量 表面積測量
      粗糙度測量 :線條粗糙度測量 表面粗糙度測量

 

 

五.典型應用
     微光機電元件(MEMOS)結構測量

乳膠懸浮物/聚合物亞表面成像分析

材料表面/斷口特性分析
       集成電路線寬測量

 封裝對準



      六.技術規格


高度測量

 測量范圍 

20mm

分辨力

1~10nm

重復性

5~ 20nm

寬度測量

分辨力

300nm

重復性

20~100nm

成像模塊


物鏡放大倍率

5/10/20/50/100倍

CCD

像素個數1628X1236

像元大小4.4μmX 4.4μm

運動模塊

手動Z軸調整范圍

行程50mm,手動鎖緊

電動Z軸調整范圍

行程24mm,最小增量步進10nm

電動XY軸調整范圍

行程20mmX20mm,最小增里步進1μm

掃描模塊掃描分辨力 

15μrad

線性度

99.9%

掃描速度

5幀/秒@256X 256像素

光源模塊

激光器

半導體激光器532nm波長

光纖

保偏光纖輸出

 


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