重慶機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制
發(fā)布時(shí)間：2022-08-07 01:36:42
重慶機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制
中小企業(yè)是德國(guó)經(jīng)濟(jì)的重要支柱。它們從不“嫌棄”自己的產(chǎn)品和領(lǐng)域不夠“高大上”，而是孜孜不倦，力求把產(chǎn)品做到極致，達(dá)到世界領(lǐng)先水平，因此這些企業(yè)也被冠以“隱形冠軍”的美名。曾參觀過(guò)德國(guó)一家生產(chǎn)工業(yè)風(fēng)扇的中小企業(yè)，為了檢測(cè)風(fēng)扇運(yùn)行時(shí)的噪音，特意建造了先進(jìn)的靜音實(shí)驗(yàn)室，置身其中，可以聽(tīng)到自己心跳的聲音。為提升品質(zhì)舍得投入，敢于投入，這樣的產(chǎn)品無(wú)疑具有強(qiáng)大的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。如果說(shuō)責(zé)任感和完美主義貫穿于德國(guó)企業(yè)文化的始終，那么家庭傳承則為此打下了重要的基礎(chǔ)。
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核心技術(shù)指標(biāo)通過(guò)國(guó)家量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)主要核心技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同類產(chǎn)品領(lǐng)先水平我公司該產(chǎn)品目前已有18種適應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)合的的型號(hào)產(chǎn)品; 在航天、國(guó)防和高端超精密裝備制造領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，可解決我國(guó)高端超精密裝備研制、生產(chǎn)和使用中的隔微振技術(shù)難題。隨著我國(guó)的裝備制造業(yè)向中高端發(fā)展，HUE-G2631將在我國(guó)發(fā)展該類高端超精密裝備發(fā)揮重大作用。航天發(fā)動(dòng)機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設(shè)備陣列式微孔氣足、陣列式節(jié)流微孔光東引導(dǎo)微口徑約束、針孔光闌m科學(xué)實(shí)驗(yàn)研究校準(zhǔn)溯源、工藝改進(jìn)
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研究目的：構(gòu)建一種具有橫向光學(xué)超分辨成像特性的新型共焦顯微成像特性，解決光束合理整形問(wèn)題并突破衍射極限，實(shí)現(xiàn)一種具有橫向光學(xué)超分辨能力的共焦顯微成像技術(shù)。基本原理：應(yīng)用二元光學(xué)器件，基于衍射原理將高斯激光光束整形為環(huán)形光束，通過(guò)設(shè)計(jì)環(huán)形光內(nèi)環(huán)半徑與外環(huán)半徑之比即環(huán)形光內(nèi)孔歸一化半徑ε，使將低頻光束頻移到高頻通帶，以減小共焦顯微鏡愛(ài)里斑的主瓣寬度，進(jìn)而達(dá)到提高其橫向分辨力和擴(kuò)展其量程范圍的目的。
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用途HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)主要用于大型和超大型精密機(jī)械、光學(xué)精密零部件的幾何參量或部件及整機(jī)運(yùn)動(dòng)參量的計(jì)量檢測(cè)、以及大型精密裝備分系統(tǒng)和整機(jī)裝配測(cè)試等。規(guī)格與工作特性HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)臺(tái)面直徑范圍為①700mm～①3000，mm，設(shè)計(jì)有T型槽或固定子L的臺(tái)面形式，特殊需要可單獨(dú)定做；臺(tái)體承重從800kg到20000kg，（技術(shù)指標(biāo)見(jiàn)附表）。結(jié)構(gòu)與工作特性HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)配置精密氣浮軸系，兼有高回轉(zhuǎn)精度、高剛度和高承載能力等特點(diǎn)。轉(zhuǎn)臺(tái)高精度旋轉(zhuǎn)時(shí)無(wú)噪聲、無(wú)振動(dòng)、運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)。
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基本原理：在傳統(tǒng)牛頓流體的雷諾方程基礎(chǔ)上，將惠普爾理論與壓力對(duì)數(shù)分布假設(shè)相結(jié)合，對(duì)傳統(tǒng)氣體潤(rùn)滑理論進(jìn)行修正和完善。建立基于動(dòng)靜壓復(fù)合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)(CTGB)的歸一化解析模型，在以剛度為目標(biāo)函數(shù)的前提下，對(duì)結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行全局優(yōu)化，從而得到基于動(dòng)靜壓復(fù)合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)參數(shù)。科學(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：對(duì)超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)中動(dòng)靜壓之間的耦合規(guī)律進(jìn)行建模。解析表述了動(dòng)靜壓之間的壓力耦合、結(jié)構(gòu)耦合以及壓力與結(jié)構(gòu)之間的交叉耦合。該技術(shù)大幅度提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的剛度、承載能力和抗擾動(dòng)能力，提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的綜合性能。實(shí)驗(yàn)表明：與傳統(tǒng)氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)(STGB)相比，承載能力提高4倍以上，剛度提高6倍以上，流量略有增大，性能曲線對(duì)比見(jiàn)Fig.1-3。
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研究目的：研究一種多點(diǎn)并行曝光、且曝光面上各曝光點(diǎn)曝光可控及曝光強(qiáng)度宏微雙重可調(diào)的高分辨力的激光直接寫入新技術(shù)，以解決傳統(tǒng)激光直寫單點(diǎn)曝光制作效率低的問(wèn)題，提高微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的制作效率。基本原理：多光斑可控并行激光直寫的基本思想是以微光學(xué)鏡陣列作為直寫物鏡，將寫入激光分別聚焦為多個(gè)高分辨力寫入光斑，以分散直寫任務(wù);利用數(shù)字微鏡DMD控制各子光斑是否曝光，并采用聲光調(diào)制器進(jìn)行宏微雙重調(diào)制寫入光強(qiáng)。