湖北機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制
發(fā)布時(shí)間：2022-04-20 01:39:01
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核心技術(shù)指標(biāo)通過(guò)國(guó)家量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)主要核心技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同類產(chǎn)品領(lǐng)先水平我公司該產(chǎn)品目前已有18種適應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)合的的型號(hào)產(chǎn)品; 在航天、國(guó)防和高端超精密裝備制造領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，可解決我國(guó)高端超精密裝備研制、生產(chǎn)和使用中的隔微振技術(shù)難題。隨著我國(guó)的裝備制造業(yè)向中高端發(fā)展，HUE-G2631將在我國(guó)發(fā)展該類高端超精密裝備發(fā)揮重大作用。航天發(fā)動(dòng)機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設(shè)備陣列式微孔氣足、陣列式節(jié)流微孔光東引導(dǎo)微口徑約束、針孔光闌m科學(xué)實(shí)驗(yàn)研究校準(zhǔn)溯源、工藝改進(jìn)
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其原理如圖所示。寫(xiě)入激光經(jīng)過(guò)調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴(kuò)束后，平行入射到DMD上，被其調(diào)制編碼、分束成獨(dú)立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后，被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺(tái)上，從而實(shí)現(xiàn)寫(xiě)入曝光;在寫(xiě)入光被調(diào)制的同時(shí)，基底平臺(tái)作光柵或回轉(zhuǎn)掃描，實(shí)現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作。科學(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫(xiě)物鏡，實(shí)現(xiàn)多光路并行同步寫(xiě)入，有效提高了寫(xiě)入效率;同時(shí)由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑，可極大地提高寫(xiě)入分辨力。
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圓柱度測(cè)量?jī)x是我公司生產(chǎn)的專業(yè)化、系列化產(chǎn)品之一，至今已有近三十余年的歷史。產(chǎn)品包括：大型圓柱度測(cè)量?jī)x、精密/超精密型圓柱度測(cè)量?jī)x、基/標(biāo)準(zhǔn)型圓柱度測(cè)量?jī)x，已形成系列化產(chǎn)品，解決了多項(xiàng)國(guó)家重大裝備造項(xiàng)目中核心器部件的關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)測(cè)量難題;并在我國(guó)航空航天、國(guó)防和精密裝備造領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。與其直接相關(guān)的技術(shù)已獲100余項(xiàng)發(fā)明專利。此外，我公司可為客戶定制一些特殊需求的專用精密/超精密光機(jī)電一體化測(cè)量?jī)x器、測(cè)試設(shè)備和試驗(yàn)裝備等。
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先進(jìn)控制策略 高精度二維轉(zhuǎn)臺(tái)采用無(wú)刷直流電機(jī)驅(qū)動(dòng);結(jié)合高精度碼盤(pán)構(gòu)成位置閉環(huán)伺服系統(tǒng)，角位置定位精度可優(yōu)于1角秒;并配有高穩(wěn)定性數(shù)顯系統(tǒng)本土化產(chǎn)品快速供應(yīng)!產(chǎn)品核心技術(shù)和部件均來(lái)自國(guó)內(nèi)，3~4個(gè)月施工完成并調(diào)試結(jié)束，無(wú)需歷經(jīng)嚴(yán)苛復(fù)雜的進(jìn)出口安全與商務(wù)審批過(guò)程!專家級(jí)成套解決方案!依托本公司超精密儀器與裝備工程專家團(tuán)隊(duì)，可提供超精密轉(zhuǎn)臺(tái)定制解決方案!