湖南超精密氣浮轉臺定制
發布時間：2023-02-01 01:34:15
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用途HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉臺主要用于大型和超大型精密機械、光學精密零部件的幾何參量或部件及整機運動參量的計量檢測、以及大型精密裝備分系統和整機裝配測試等。規格與工作特性HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉臺臺面直徑范圍為①700mm～①3000，mm，設計有T型槽或固定子L的臺面形式，特殊需要可單獨定做；臺體承重從800kg到20000kg，（技術指標見附表）。結構與工作特性HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉臺配置精密氣浮軸系，兼有高回轉精度、高剛度和高承載能力等特點。轉臺高精度旋轉時無噪聲、無振動、運動平穩。
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儀器特點和優勢：我公司生產的系列圓柱度測量儀完全擁有自主知識產權，具有測量精度高、重復性好、儀器功能模塊化、中文操作界面等優點，能夠對精密、大型、重型及特殊形狀回轉體類零件的圓度、圓柱度、直線度、垂直度、同軸度和同心度等幾何參量進行測量，并能進行相關分析。可廣泛用于航空航天、船舶、國防、汽車、軸承等各類精密裝備制造領域。基/標準型圓柱度測量儀可用于計量部門，開展圓柱度量值的傳遞與溯源工作，基準型圓柱度測量儀(圖1)的主要技術指標詳見技術參數。
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其原理如圖所示。寫入激光經過調制穩光、準直擴束后，平行入射到DMD上，被其調制編碼、分束成獨立的光陣列;再經4?空間濾波系統濾波后，被微光學陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺上，從而實現寫入曝光;在寫入光被調制的同時，基底平臺作光柵或回轉掃描，實現微陣列和微結構光學器件的曝光制作。科學意義及應用價值：利用微光學陣列替換傳統的直寫物鏡，實現多光路并行同步寫入，有效提高了寫入效率;同時由于微光學透鏡與傳統物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數值孔徑，可極大地提高寫入分辨力。
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核心技術指標通過國家量儀產品質量監督檢驗中心檢測主要核心技術指標達到國際同類產品領先水平我公司該產品目前已有18種適應不同應用場合的的型號產品; 在航天、國防和高端超精密裝備制造領域有廣泛應用，可解決我國高端超精密裝備研制、生產和使用中的隔微振技術難題。隨著我國的裝備制造業向中高端發展，HUE-G2631將在我國發展該類高端超精密裝備發揮重大作用。航天發動機、航空發動機、汽車發動機陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設備陣列式微孔氣足、陣列式節流微孔光東引導微口徑約束、針孔光闌m科學實驗研究校準溯源、工藝改進
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HUE-X931是哈爾濱工業大學、哈爾濱超精密裝備工程技術中心有限公司聯合開發的新一代高空間分辨率光學共焦顯微鏡。 產品系大型高端科學儀器，綜合了國內外優勢技術方案，技術密集度極高，能夠實現對各類樣品表面微結構的高分辨率三維測量。使用環境，溫度要求：20℃±1℃;濕度要求：小于60%RH;隔振要求：儀器應放在隔振基礎上，周圍無劇烈振動和沖擊;電磁場要求：使用現場周圍無強電磁干擾。
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基本原理：干涉儀對深度非球面元件進行多次局部檢測，兩次測量區域之間有一定的重疊。將每兩次檢測重疊部分的相位值經過擬合統一到一個曲面上，這樣可不斷地將測量范圍擴大，從而獲得整個待測元件表面輪廓。拼接的理論依據是在重疊區域內，兩次測量得到的波前相位值是一致的，即兩次測量相位數據位于同一個曲面上。而在實際測量過程中，則需要傾斜、位移、離焦和振動干擾等誤差影響，并依據一種高精度的多子孔徑干涉拼接測量模型，實現全域凸凹深度非球面形狀的測量與評定。