廈門機械轉臺廠家
發布時間：2023-01-14 01:34:45
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其原理如圖所示。寫入激光經過調制穩光、準直擴束后，平行入射到DMD上，被其調制編碼、分束成獨立的光陣列;再經4?空間濾波系統濾波后，被微光學陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺上，從而實現寫入曝光;在寫入光被調制的同時，基底平臺作光柵或回轉掃描，實現微陣列和微結構光學器件的曝光制作。科學意義及應用價值：利用微光學陣列替換傳統的直寫物鏡，實現多光路并行同步寫入，有效提高了寫入效率;同時由于微光學透鏡與傳統物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數值孔徑，可極大地提高寫入分辨力。
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由我公司承擔的上海微電子裝備有限公司(SMEE)的光刻機計量框架和基礎框架制造任務于2017年2月13日通過預驗收與交付，這標志著我公司對于精密復雜構件的制造能力提升至一個新的臺階。光刻機被稱為“智能制造業中的珠穆朗瑪峰”，其中的計量框架是整個光刻機的工作基準平臺，尺寸龐大(2.2m′1.9m)，結構復雜，僅定位銷孔一百二十多個；螺紋孔四百多個；基礎框架是整個光刻機的基本支持體，尺寸達2.75m′1.86m′1.37m，其螺紋孔有三百多個。計量框架與基礎框架中對任何加工部位的位置、形狀、尺寸、表面形貌等要求相當高，正常的制造周期為6個月。
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研究目的：研究一種多點并行曝光、且曝光面上各曝光點曝光可控及曝光強度宏微雙重可調的高分辨力的激光直接寫入新技術，以解決傳統激光直寫單點曝光制作效率低的問題，提高微陣列和微結構光學器件的制作效率。基本原理：多光斑可控并行激光直寫的基本思想是以微光學鏡陣列作為直寫物鏡，將寫入激光分別聚焦為多個高分辨力寫入光斑，以分散直寫任務;利用數字微鏡DMD控制各子光斑是否曝光，并采用聲光調制器進行宏微雙重調制寫入光強。
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在經歷了簡單的投影儀、二次元影像測量儀、高端三坐標測量機這三個發展階段之后，目前的精密檢測儀器更加趨向于智能化、自動化和集成化，解決了人工肉眼和卡尺卡規檢測的局限性。精密檢測儀器被廣泛應用在工業產品的檢測上，隨著國內工業的發展，精密檢測儀器的市場需求不斷增加。精密檢測儀器目前已成為工業發展不可或缺的一個產業，是新興產業中高速發展的一個行業。新時代，更多的產品需要提供三維檢測，這樣才能更好的為現代社會的發展提供服務，所以國內的精密檢測企業就在二次元影像儀的基礎上研發生產了三坐標測量機，從而實現更高端的產品的三維檢測任務。
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為做好國家首批國家重大科學儀器開發專項項目驗收工作，6月26日至27日，科技部科研條件與財務司副司長吳學梯、工業和信息化部科技司副司長李力先后來我公司考察，了解我公司的國家重大科學儀器設備開發專項項目。工業和信息化部、省工信委相關領導，我公司董事長等參加現場考察。吳學梯在考察時強調了國家實施創新驅動發展戰略的重要意義和迫切性，詳細了解了譚久彬教授所承擔的“超高分辨率反射式立體層析共焦顯微鏡研制”項目在核心技術突破、工程樣機和產品樣機研制、測試驗證、第三方異地測試的準備、產業前景和產業化途徑、知識產權保護、標準制定以及經費使用等方面的進展情況。
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HUE--D1331系列超精密氣浮導軌主要用于高精度測量儀器、光學檢測儀器、精密/超精密光機電一體化裝備、精密/超精密機床等先進裝備制造領域，是精密/超精密儀器與制造裝備中保證高精度直線運動導向和定位的關鍵部件。HHUE--D1331氣浮導軌已成系列，其有效行程從50mm至3000mm截面尺寸主要從50mm×50mm至250mm×350mm(見表2);該系列氣浮導軌具有優異的直線運動精度和良好的剛度，直線運動誤差小于0.03μm~0.1μm/50mm，0.05μm~0.2μm/100mm等。特殊需求可單獨設計。